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2024年2月5日
INDEST勉強会 #11 ※東工大発ベンチャー限定参加型 「グローバル市場戦略：キヤノン＆米国ＶＢ：Molecular Imprints社 PMI舞台裏 ～ナノプリントが世界を変えた物語～」
日時2024年 3月11日（月）16:15～17:15（現地参加のみ）
東京工業大学が田町キャンパス内で運営するインキュベーションオフィス「INDEST」。『世界を変える大学発スタートアップを育てる』というコンセプトのもと、現在さまざまなイベントを開催しております。今回、INDEST勉強会第11弾としましては、“グローバル市場戦略”をテーマにお届けいたします。
スタートアップの成長における、効果的なグローバル戦略とは？
また成長戦略の１つでもある、“大企業との協業”における成功ポイントとは？ 意思決定のスピード感など、あらゆる条件が異なるベンチャー企業と大企業。熱量や経験の共有をいかに行うか、またその相手が海外の企業となった時、どのように壁を乗り越えていくべきなのか。
今回は、キヤノン株式会社Senior Principal Engineer：岩永武彦氏とCanon Nanotechnologies, Inc. (CNT) President and CEO：Dwayne LaBrake氏をゲストにお迎えし、そんな2社のPMI （Post Merger Integration）の舞台裏の物語について語っていただきます。2014年に米VBMolecular Imprints社（MII）を買収して完全子会社化、Canon Nanotechnologies Inc. (CNT) を創設したキヤノン株式会社。両社のシナジーによって、微細化を実現する次世代半導体露光装置の開発を加速、半導体露光装置分野におけるキヤノンの地位を確固たるものにしたきっかけは、このナノプリント技術でした。当時の担当者：岩永氏とDwayne氏に、今だからこそ語れる当時の苦楽とその乗り越え方について振り返って頂きます。是非、グローバル展開や大企業とのシナジーづくりのご参考にして頂ければと幸いです。数多くの東工大発ベンチャーの皆様のご参加をお待ち申し上げております。
※本イベントは、【東工大発ベンチャー称号取得企業様 】のみご参加可能のCLOSED型となっております。それ以外の法人・個人の方のご参加はできかねますので、予めご了承くださいませ。
イベント概要
- 日時：2024年 3月11日（月）16:15～17:15（現地参加のみ）
- 主催：INDEST、東京工業大学 研究・産学連携本部イノベーションデザイン機構
- 場所：INDEST 4Fラウンジ
- テーマ：「キヤノン＆米国のＶＢ：Molecular Imprints社 PMI舞台裏 ～ナノプリントが世界を変えた物語～」
アクセス
〒108-0023 東京都港区芝浦3-3-6 JR田町駅 芝浦口 徒歩1分
講師紹介
Guest Speaker：Dwayne LaBrake President and Chief Executive Officer of Canon Nanotechnologies, Inc. (CNT) in Austin, Texas.
Dwayne has a PhD in Physical Chemistry and after post-doctoral work at Northwestern University he joined 3M company in a staff research lab developing holographic optical elements. In his 10 years at 3M, Dwayne developed technologies, manufacturing processes and products in the area of fiber optic components for telecommunications. While at 3M Dwayne was twice awarded the company’s annual Circle of Technical Excellence award for team leadership and technical championing. In 2003 Dwayne joined Molecular Imprints, Inc. (MII), a pioneer in nano imprint lithography (NIL) tools and technology. At MII, he served as the Director and then the Vice President of process and materials development, customer applications, and template and ink-jet technology. In 2014, part of the technology portfolio of MII was acquired by Canon Inc., and CNT was formed. CNT is an R&D company supporting the introduction of nanoimprint lithography, NIL, as an advanced lithography product for Canon Inc. Japan. Dwayne LaBrake has been CEO of Canon Nanotechnologies (CNT) since 2016. Dwayne is an inventor on more that 27 US patents and has numerous peer reviewed publications.
：物理化学の博士号を取得後、ノースウェスタン大学で博士研究員として勤務。その後、3M 社にてホログラフィック光学素子を開発。3M 時代の 10 年間で、光ファイバーコンポーネント分野での技術および製品開発に携わる。 （同社“Circle of Technical Excellence Award” を 2 回受賞）2003 年に、ナノインプリントリソグラフィー (NIL) のパイオニアである Molecular Imprints, Inc. (MII) に入社。材料開発、顧客アプリケーション、インクジェット技術などのディレクターを務め、その後副社長に就任。 2014年にMIIがキヤノン株式会社に買収され、キヤノン・ナノテクノロジーズ Canon Nanotechnologies, Inc.（CNT）が誕生した。 CNT社では、キヤノン株式会社の先端リソグラフィー製品として、ナノインプリントリソグラフィー（NIL）の導入を支援し、2016 年から同社CEOを務める。 27 件以上の米国特許の発明者でもある。
Guest Speaker：キヤノン株式会社 Senior Principal Engineer、光学機器事業本部 半導体機器第3PLMセンター 半導体機器NGL第1技術推進室 岩永武彦氏
長年Canonにて半導体露光装置の研究開発に従事。2000年台後半にNanoimprint Lithography (NIL)機の開発を率いる立場として、Molecular Imprints, Inc. (MII) との協業をスタート。2014年MIIのM&AによりCanon Nanotechnologies, Inc. (CNT)が設立された後も、開発所長としてCNTとの共同開発並びにPMIの中核を担ってきた。2020年よりSenior Principal Engineer。
※CanonのNILに付きましては、以下のURLをご参照ください。
ナノインプリントリソグラフィ | キヤノングローバル (global.canon)
タイムテーブル
16:15 ご挨拶、INDEST 紹介
16:20 キヤノン株式会社 岩永氏、Canon Nanotechnologies, Inc. (CNT) Dwayne氏によるセッション
17:00 Q&A
17:15 終了予定
※本勉強会終了後に、17：30～19：30＠INDEST2階ラウンジにて、以下のYVP（東工大横浜ベンチャープラザ）×INDEST共催イベント「グロバール市場攻略 日本から世界市場を狙え！「クロストーク：EVERON株式会社CEO：BENTO MASSAHIKO KOIKE氏 ×東工大物質理工学院准教授 林智広氏」（交流会あり）も開催を予定しております。お時間ご都合つかれましたら、是非こちらもご参加下さいませ。（参加申し込みは以下から）
詳細は：https://www.idp.ori.titech.ac.jp/event-news/4419/
対象
- 東工大発ベンチャー企業のみ参加可能
参加申し込み
下記のフォームよりお申し込みください。
https://forms.gle/FGArdTzNczDgawHL6
問い合わせ先
当勉強会に関するお問い合わせは下記までお願いします。
東京工業大学 イノベーションデザイン機構
venture@sangaku.titech.ac.jp
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